深圳市和科达精密清洗设备股份有限公司

和科达,成立于1994年,股票代码002816，总部位于深圳，历经30年发展，目前已构建多元化产业生态,旗下设立超声清洗设备、半导体设备、储能设备、水处理设备、精密部件等多家专业子公司,形成覆盖精密清洗、新能源技术、工业环保、先进制造的产业矩阵。凭借着对技术不懈追求和对品质坚守执着的初心，公司将携手制造业客户伙伴一同面向未来、追求卓越。

深圳市和科达半导体设备有限公司成立于2020年，作为国内领先的半导体湿法制程设备制造商，公司拥有实力雄厚的研发团队及行业专家，技术团队核心成员来自台湾及国内外知名公司，相关工程技术人员在半导体设备行业从业15年以上，极丰富的工业设计及工艺应用经验，为客户提供高质量的半导体设备解决方案及服务。

深圳市和科达超声设备有限公司是一家集研发、设计、生产超声波清洗设备为一体的国家级高新技术企业；设备应用广泛，涉及光学、五金、汽车、电子、航空、新能源、机械等领域，为客户供一流的工业清洗设备开发、定制及售后保障服务。

和科达始终秉持“科技创新，品质至上，顾客至上 诚信服务”的核心发展理念，深耕高端智能装备研发制造领域，以技术创新为内核、品质管控为根基、客户服务为导向，全方位夯实企业核心竞争力，实现稳健高质量发展。凭借持续的技术创新、可靠的产品品质与完善的服务体系，赢得国内外客户信赖,产品畅销全球多个国家和地区。

高精度无掩膜光刻机DL-1000

在芯片制造的核心环节，光刻精度与产能直接决定产品竞争力。我司全新推出的高精度光刻设备，凭借“高产能+高精度”双重优势，精准适配先进封装工艺需求，成为半导体细分赛道的可靠选择。

设备应用场景广泛：既覆盖先进封装、化合物半导体、功率器件、MEMS（微机电）等热门领域，也可深度服务于晶圆制造环节，为多类型芯片提供从研发到量产的“光刻底座”。核心技术层面，搭载成熟的曝光光学系统与高精度对准系统——前者保障图案转移的稳定性，后者将对准误差控制在微米级，完美匹配先进制程对精度的严苛要求。

灵活的配置选项更显“定制化”优势：从科研开发用的小批量实验设备，到全自动量产型产线设备，可根据客户需求调整参数与功能模块，兼顾研发阶段的灵活性与量产阶段的高效率。无论是高校实验室的工艺探索，还是晶圆厂的规模化生产，都能找到适配方案。

以光学技术为核，以客户需求为尺，这款光刻设备正成为半导体企业提升工艺水平、拓展产品矩阵的得力助手。

晶圆单片清洗机 SWC-3008

在半导体工艺持续微缩的当下，清洗环节的洁净度直接决定芯片良率。我司推出的晶圆单片式清洗机，以更优的工艺适配性与高效产能，成为前道与后道制程的可靠选择。

相较于传统槽式清洗，本设备清洗效果显著提升，能精准应对先进制程对颗粒、残留物的严苛要求，为高阶工艺筑牢基础。灵活的配置方案是另一大亮点：可根据客户需求定制4/6/8/12腔室，兼顾产能与空间效率；同时适配6寸/8寸/12寸晶圆清洗，内置精密化学药液配比装置，确保工艺稳定性，搭配废液回收装置，兼顾环保与成本控制。

设备专为高阶清洗和蚀刻场景设计，既适用于薄膜沉积前、光刻前的前道清洗，也能满足封装后道工艺需求，实现“一机多能”。全面支持SECS/GEM通讯协议，可无缝接入工厂自动化系统，助力客户构建数字化生产流程。从工艺适配到产能优化，为半导体制造企业提供更具竞争力的清洗解决方案。

工位高精密封闭式碳氢清洗机HKD-1002VTGF

单工位高精密封闭式碳氢清洗机具有封闭式闭环回收系统，实现极低的 VOCs 排放，排放浓度小于 80mg/m³；具备强劲清洗性能，工件清洗后金属颗粒度检测小于 200U，单次清洗节拍约 8min，同时实现超低碳氢溶剂消耗，每月消耗量小于 80L。集洁净度稳定、高效生产、低碳耗、节能环保等优势于一体，可应用于轴承、微电机马达等精密零件清洗场景。

超柔性玻璃清洗机-UTG  HKD-10216STGF

超柔性玻璃清洗机搭载伺服丝杆平稳传动降低碎片率，槽体与法兰振板电解抛光，搭配高纯水漂洗、氮气防氧化干燥，支持全自动连续量产，洁净稳定、超薄基材适配性强、运维便捷。设备用于超柔性玻璃抛光后清洗干燥，专为超薄易损 UTG 基材定制清洗方案，温和去除抛光粉尘、油污、有机物与颗粒，成品无水痕、低划伤、无二次污染，适用于折叠屏 UTG 超柔性玻璃、高端光学薄片、超薄光学盖板精密制程清洗工序。